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All-in-One型
イオン注入装置
SAion ONLY INNOVATION CREATES THE FUTURE
PRODUCTS 製品情報

ITEM INFO

中電流・高電流の両技術を融合した、
用途柔軟性が高い
All-in-Oneタイプの装置

SAionは、光学系、搬送系および制御系のすべてを刷新した300mm対応イオン注入装置です。
従来の高電流装置と中電流装置を統合する広範なエネルギー・ドーズ範囲を持ち、半導体製造における多くの注入工程が本機にて処理が可能になりました。特に、ほぼすべての運用範囲でビーム電流を2倍以上(中電流装置比)に増強したことで大幅な生産性向上を達成しています。

品質面においては、新設計の搬送系によって500枚/hのメカニカルスループットを達成しつつ、半導体製造上の重要な歩留り低下要因であるパーティクル(微細粒子)の抑制に成功し、ウエハ面と異なる位置での計測値で代用してきたビーム発散角や平行度などの重要なビーム品質情報に関して、イオン注入装置として初めて製品ウエハ面上で計測し、制御することが可能になりました。

SAionを特徴付けるこれらの性能・機能は、現世代の主要工程である300mmウエハだけではなく、将来の450mmウエハにも展開可能な設計となっており、将来のスムーズなプロセス移行を可能としています。

高い生産性および注入品質、広い運用柔軟性を持って、さらに将来へのプロセス移行も極めて容易にし得るコンセプトを持った第6世代のイオン注入装置がこのSAionです。

POINT

製品の特徴PICK UP

  • 300ミリだけでなく200ミリのウェハにも対応し、450mmにも展開可能
  • HC装置とMC装置を一体化したフレームワーク
  • エネルギー範囲 最小:0.2keV / 最大:630keV
  • 高い電流値と広いエネルギーレンジによる、高い装置本体性能
  • 生産の機種間フレキシビリティや装置有効利用率の向上、習熟工数の削減など、機種間互換性によりもたらされる新たな価値
  • 新搬送システムの採用による生産性向上、およびパーティクル低減
  • 新角度計測システムの採用による、ビーム角度測定の速度および品質の向上
  • ウェハと同一平面上のビーム角度を計測可能
  • RFシャワーシステム標準化
  • メタルコンタミネーションの極小化
  • シンメトリックスキャンによる良好な均一性
  • 静電機器主体の省電力性能
  • MINDシステム搭載

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