SERVICE イオン注入サービス

当社では、1999年より注入サービスを実施しております。
300mmウエハ対応をはじめとする、最先端の半導体デバイス製造に対応した高電流、中電流、高エネルギーイオン注入装置を取り揃え、幅広い注入サービスが可能です。

皆様の研究・開発業務にお役立ちできれば幸いです。