高エネルギー
イオン注入装置 PRODUCTS イオン注入装置

高エネルギーイオン注入は、エンベディッドタイプのデバイスでのトリプルウェル形成に不可欠であるとともに、CCD、CISなどのイメージセンサー量産にも必須な技術となっています。多段ＲＦリナック加速方式を採用した高エネルギーイオン注入装置としてＨＥ３シリーズを提供しています。

さらに、従来の高エネルギー装置がカバーするエネルギーレンジを凌駕する超高エネルギー領域での注入を可能とし、加えて、従来にない精密さを誇る注入をも実現させた枚葉式超高エネルギー装置「S-UHE」の提供を開始しました。S-UHEは、HE3シリーズで長年の実績があるリナックシステムを搭載し、さらに高電流装置、中電流装置とも共通するコンセプトである、枚葉搬送システムと左右対称なイオンビーム平行化光学系を採用し、高精度なビームの平行度やウェハ全面にわたる高精度の注入均一性を実現しています。