高電流
イオン注入装置
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イオン注入装置
ITEM INFO
中電流領域の一部までカバーし
多様なアプリケーションに対応可能な、
後段加速付高電流イオン注入装置の
デファクトスタンダード
当社では、高電流装置としては「枚葉式高電流装置」SHXシリーズをラインナップし、高精度かつ高品質で、生産性の高いイオン注入技術を提供していますが、注入エネルギー180keVまで対応し高ドーズ注入が可能となるバッチ式高電流装置NV-GSDⅢ-180も提供しています。
NV-GSDⅢ-180ではパワーデバイスに必要な高エネルギー、高ドーズ処理で中電流装置では生産性が落ちる領域をカバーして高生産性を可能にします。
またGSDシリーズから高信頼性の搬送系、ドーズコントロール精度を継承しておりダウンタイムの低減、低ドーズでも良好な注入均一性と再現性を実現しています。
POINT
製品の特徴PICK UP
- 5、6、8インチウエハに対応
- 2～180keVまで広範囲の注入エネルギーに対応（後段加速機構搭載）
- 信頼性のあるバッチ式搬送系
- 高い実効スループット
- 信頼性ある高いドーズコントロール精度
- 低メタル、低クロスコンタミネーションによる高いビーム品質
- 高信頼性、高メンテナンス性
