マイクロセカンド
レーザアニーリング装置 PRODUCTS レーザシステム

QA-3000は、新世代のマイクロ秒UVレーザのアニーリング技術を搭載し、従来の熱処理プロセスでは実現が難しかったサーマルバジェットの精密制御を可能にするレーザアニール装置です。微細化・高性能化が進む半導体デバイスの製造において、短時間かつ局所的な熱処理の需要が高まる中、QA-3000はその課題に応える革新的なプラットフォームとして開発されました。

マイクロ秒オーダーでの加熱を実現する独自のUVレーザ技術により、先端半導体デバイスに必須となる、活性化、結晶化、キュアリングプロセスを、高い品質で実現します。シリコンに加え、SiCやGaNといったワイドバンドギャップ材料にも適用範囲を広げ、材料特性を損なわずにデバイス性能の向上に寄与します。

さらに、QA-3000は量産適用に最適化されたコンパクト設計の装置であり、従来機のLT-3100から大幅にフットプリントを縮小。ステップ＆リピート照射方式によって、ウェーハサイズや材料特性に左右されない高い面内均一性を実現しています。こうした柔軟なプラットフォームにより、新規プロセス開発から量産ラインへのスムーズな移行を可能にし、生産性の飛躍的な向上に貢献します。