第89回 半導体・集積回路技術シンポジウム招待講演のお知らせ

2025年8月28日（木）・29日（金）に開催される「第89回 半導体・集積回路技術シンポジウム」にて、招待講演を行います。

本シンポジウムは、半導体・集積回路技術分野における研究開発の最新動向や研究成果について、さまざまな分野の専門家が情報を共有する場として開催されます。

当社は、「高性能パワー半導体実現に向けたイオン注入・レーザアニール技術」について講演致します。

開催概要

• 名称：第89回 半導体・集積回路技術シンポジウム
• 日時：2025年8月28日（木）・29日（金）
• 会場：東京理科大学 森戸記念館 第1フォーラム室（東京都新宿区神楽坂）
• 主催：電気化学会電子材料委員会
• 形式：ハイブリッド開催（現地＋オンライン）

講演情報

• 講演者：大野暁史（住友重機械イオンテクノロジー株式会社）
• 講演タイトル：高性能パワー半導体実現に向けたイオン注入・レーザーアニール技術
• 講演日時：2025年8月28日（木） 16:40〜17:20（予定）

詳細は、シンポジウム公式サイトをご覧ください。